Пост канала
- ссылка
Китай разработал ключевой компонент для суверенной EUV-литографии — помог бывший инженер ASML Производство полупроводников зависит от литографических сканеров, но их выпускает лишь несколько западных компаний. Китай, пытаясь сократить отставание, развивает собственные технологии. Недавно местным исследователям удалось создать источник излучения в сверхжёстком ультрафиолетовом диапазоне EUV. Такие источники нужны для разработки передового оборудования для производства чипов. #asml #euv #литография #производствомикросхем https://3dnews.ru/1146606?utm_source=nova&utm_medium=max
Открыть в MAX- Просмотры
- 932
- ER
- 1,9%
- Реакции
- 18